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标印机
光刻及微纳德国赛车结构加工

  平台可供应加工:透射(TEM)制样、德国赛车样品原位加工、芯片电道窜改、原位电职能测试、诱导资料浸积等。

  聚焦离子束双束编制(FIB)是一种集形容观测、定位制样、成份解析、薄膜浸积和无掩模刻蚀等经过于一身的新型微纳加工技巧。

  是用光刻机通过曝光将掩模版上图形转变到涂有光刻胶的衬底外观上,是微纳器件加工成型中最枢纽的技巧之一。平常的光刻工艺举措搜罗匀胶、前烘、瞄准曝光、显影、后烘等。光刻胶通过涂胶机欺骗旋涂的式样涂覆正在基片上。AEMD平台现具有众台涂胶机、热板、光刻机和显影机等;供应单面光刻、正面临准套刻、后背临准套刻等效劳。

  电子束直写光刻技巧具有极高的分离率,能够到达数纳米的加工才干。平台现有配置能够加工最小特质尺寸为8纳米的器件,兼容8寸以下基片及不礼貌小片。